AMAT 0010-23715 电源模块

描述

AMAT 0010-23715 原装等离子体刻蚀电源模块

第二部分：产品简要说明

AMAT 0010-23715：这款射频（RF）电源发生器模块，专为应用材料（AMAT）半导体刻蚀与PVD设备设计。输出频率：500kHz / 13.56MHz双频可选，最大输出功率：1000W，输入电压：三相380VAC。具备自动阻抗匹配功能，确保等离子体稳定激发。广泛应用于65nm及以上制程的晶圆制造，是保障工艺重复性与良率的关键组件。

第三部分：产品详细说明

0010-23715 产品概述

在半导体制造的精密世界里，每一个环节都容不得半点偏差。而AMAT 0010-23715，正是支撑这一高精度工艺背后的重要力量之一。这款射频（Radio Frequency, RF）电源发生器模块，由应用材料公司（Applied Materials, AMAT）专为旗下Centura、Producer等系列等离子体刻蚀（Etching）与物理气相沉积（PVD）设备开发，承担着激发和维持等离子体的核心任务。

简单来说，它就是“点燃”真空腔室内气体、形成等离子体的“火种”。通过输出高频交流电，在反应腔内产生强电场，使惰性气体电离，生成高活性的等离子体，进而对晶圆表面进行精确的材料去除或薄膜沉积。AMAT 0010-23715 支持500kHz与13.56MHz双频输出，可灵活适配不同工艺需求——低频用于高能轰击，高频则提升等离子体密度。这种双频能力，使得它在深沟槽刻蚀、硬掩膜去除等复杂工艺中表现出色。

作为AMAT原厂设计的电源模块，0010-23715 与设备的匹配度极高，能够实现精准的功率控制、快速的响应时间和优异的工艺重复性（Process Repeatability）。它不仅是硬件单元，更是整套工艺配方得以稳定执行的基础保障。

主要特点和优势

AMAT 0010-23715 的设计充分体现了半导体级设备对稳定性、精度和可靠性的极致追求。其最突出的特点之一是集成了自动阻抗匹配网络（Auto Matching Network）。在等离子体工艺过程中，腔体内的阻抗会因气体种类、压力、功率等因素动态变化。如果阻抗不匹配，会导致功率反射，不仅降低效率，还可能损坏射频发生器。而0010-23715 内置的闭环控制系统能实时监测前向与反射功率，并自动调节匹配电容，将反射功率控制在极低水平（通常<5%），确保能量高效传递至等离子体。

其次，该模块具备高精度的功率控制与反馈机制。输出功率可从0到1000W连续可调，分辨率高达0.1W，响应时间小于10ms。这种精细控制能力对于维持刻蚀速率的一致性至关重要，尤其是在多腔体并行工艺中，必须保证每个腔体的RF功率完全一致，否则会导致晶圆间（wafer-to-wafer）或批次间（lot-to-lot）的工艺偏差。

此外，0010-23715 采用模块化设计，便于维护和更换。其内部电路经过严格的电磁兼容（EMC）设计，减少对外部设备的干扰。散热系统采用高效风冷与热通道隔离设计，确保在高负载下长期稳定运行。所有关键参数均可通过SECS/GEM（SEMI Equipment Communications Standard）协议与主机厂（Host）通信，实现远程监控与故障诊断，符合现代智慧工厂（Smart Fab）的集成需求。

The AMAT 0010-23715 RF generator is engineered for precision plasma processing in advanced semiconductor fabrication. Delivering up to 1000W of RF power at dual frequencies (500kHz and 13.56MHz), it enables precise control over plasma density and ion energy—critical for high-aspect-ratio etching and thin-film deposition. Its integrated auto-matching network ensures maximum power transfer and minimal reflected energy, enhancing process stability and tool uptime.

Designed for seamless integration with Applied Materials’ Centura and Producer platforms, the 0010-23715 offers exceptional repeatability and reliability. With fast response times, high-resolution power control, and robust diagnostics, it supports demanding processes in memory and logic device manufacturing. Built to meet the rigorous standards of 300mm fabs, this RF module is a trusted solution for maintaining yield and performance in high-volume production environments.

0010-23715 技术规格